曩昔的这几十年间，芯片制程其实差不多是依照摩尔规律走的，直到进入7nm后，根本上就无法依照这一个规律走了，比方5nm、3nm的演进就慢了许多，所以许多人称现在摩尔规律已死。

  不过近来，IMEC（比利时微电子中心）仍是展现了一张最新的芯片制作开展道路nm工艺，表明接下来芯片制作仍是会依照摩尔规律走下去。

  如下图所示的这个演进途径，2022年完成N3也便是3nm，2024年到2nm，2026年到A14也便是1.4nm，2028年到1nm，而且还会演进，到2036年是直接到达0.2nm。

  一起在晶圆管技能上，也有技能演进，现在是FinFET，而到2nm时会换成GAAFET，再到0.5nm时，会换成CFET技能。

  不过，我们都看看我在上图标的绿色框，这儿指的是MP金属栅极距，这是真实代表晶体管密度，也便是工艺目标的参数。

  它在1nm之前仍是在不断变小的，直到1nm工艺时，为16nm，但接下来不论工艺怎样先进，其参数长时间处在16-12nm间了。

  意思便是晶体管密度其实不再怎样变化了，不论你是1nm，仍是0.5nm，或许0.2nm，这个MP金属栅极距根本不变了。

  事实上，之前已经有科学家表明，当芯片工艺在1nm之后，量子隧穿效应有必定的概率会让半导体失效，估量这也是怎样回事1nm后，这个MP金属栅极距不变了，由于不可能再变小了。

  这也代表着接下来工艺终究是多少nm，它与晶体管密度没太多联系了，更多的仍是数字游戏了，晶圆厂商们乐意说多少nm，便是多少nm，与MP金属栅极距不再有对应联系。

  事实上，在进入10nm之后，我们就吐槽台积电、三星的所谓nm工艺制程与MP金属栅极距已不再有对应联系，更多的是数字营销游戏，只要英特尔或是洁白的，但到了1nm后，那就我们都要玩数字游戏了，那这样的摩尔规律终究还有毫无意义？